ウェハー加工・マイクロ流路・ファクトリーオートメーション・生産受託の九州セミコンダクターKAW

ウェハー加工・マイクロ流路・ファクトリーオートメーション・生産受託の九州セミコンダクターKAW
お問い合わせ
for English
会社概要
ファクトリーオートメーション・ウェハー加工・マイクロ流路・生産受託の九州セミコンダクターKAW

施設紹介

 

クリーンルーム

大型クリーンブースによるクラス100以下の室内環境が整備可能です。また、有機溶剤/特化物等取扱いに伴う作業環境整備も可能です。

管理実力値

大型クリーンブース  クラス1k設計(実力値 50以下)
クリーンルーム1-1 クラス1k設計(実力値 30以下)  300m2
クリーンルーム1-2 クラス10k設計(実力値 100以下) 250m2
クリーンルーム2 クラス100k設計(実力値 200以下) 500m2
クリーンルーム3 クラス100k設計(実力値 200以下) 800m2

関連設備

集塵機
排気FAN(一般/溶剤関連)

 

超純水システム

各種廃液を専用タンクに移送。濃度/薬品により廃棄物として処理を行える環境は整備可能です。

能 力

比抵抗 12MΩ以上
供給圧力 0.2Mpa以上

関連設備

前処理システム
純水精製システム
排水処理システム
各種廃液移送システム

 

コンプレッサーシステム(ドライエアー精製システム)

供給露点は最大-70℃まで、供給圧力は最大0.7Mpaまで整備可能です。

能 力

露点 -40℃以下
供給圧力 0.6Mpa以上

関連設備

大型コンプレッサー
冷凍式ドライヤー
ヒートレスドライヤー
ラインフィルター/オイルフィルター

 

窒素供給システム

供給純度最大は99.999%まで、供給露点は最大-70℃まで整備可能です。

能 力

露点 -40℃以下
供給圧力 0.4Mpa以上
純度 95%以上

関連設備

膜式窒素発生装置
ラインフィルター
コールドエバポレータ(CE設備)

 

除害システム

型 式

MAK-025

処理方式

乾式処理剤(トムクリーン)による化学吸着処理

処理ガス

SiH4、NH3、分解副生成物(HF、SiH4、SO2)
プロセス総排気流量は約40L/min

 

型 式

MAK-100(屋内用1筒式)

処理方式

乾式処理剤(トムクリーン)による化学吸着処理

処理ガス

SiH4、NH3、分解副生成物(HF、SiH4、SO2)プロセス総排気流量は約120L/min